联想武汉研发基地项目

2018-02-10


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项目名称:联想武汉研发基地项目;

项目位置武汉东湖高新区关山大道与南湖大道交汇处

建筑面积本项目由3层地下室,3层裙楼及A栋、B栋两栋29层塔楼组成,总规划建筑面积17.4万平方米

    项目建筑主要功能甲级写字楼、配套商业;联想武汉研发基地投用后,将成为全球最大移动互联产业基地一部分,               供研发和管理团队进行移动互联设备和应用领域研发。

弱电规模共21个子系统,项目总投资近2700万。

 


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